當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 紫外掩膜曝光系統(tǒng) > UV-KUB 3 > UV-KUB 3UV-LED 的緊湊型掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
簡(jiǎn)要描述:UV-KUB 3 是一種基于掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的 UV-LED,具有 365nm 的可用光源。 這是一個(gè)非常緊湊的桌面系統(tǒng),兼容 4 英寸晶圓和 100x100 mm² 工作表面。 由于特定的光學(xué)裝置可提供最大發(fā)散角小于 2° 的準(zhǔn)直光束,因此可實(shí)現(xiàn)的最小特征尺寸為 2 µm。
產(chǎn)品分類(lèi)
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u非常緊湊實(shí)用的系統(tǒng)
u在 365nm 處*單色曝光
u可處理 4 英寸晶圓
u硬(物理)接觸或軟(接近)接觸模式
u兼容所有光刻膠
u分辨率:2µm
u對(duì)準(zhǔn)分辨率:< 3µm
u由 PAD 引導(dǎo)
UV-KUB 3 是一種基于掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的 UV-LED,具有 365nm 的可用光源。 這是一個(gè)非常緊湊的桌面系統(tǒng),兼容 4 英寸晶圓和 100x100 mm2 工作表面。 由于特定的光學(xué)裝置可提供最大發(fā)散角小于 2° 的準(zhǔn)直光束,因此可實(shí)現(xiàn)的最小特征尺寸為 2 µm。 UV-KUB 3 系統(tǒng)兼容硬(物理)接觸或軟(接近)接觸模式,并提供低至 3 µm 的對(duì)準(zhǔn)分辨率。 該掩膜對(duì)準(zhǔn)器系統(tǒng)支持所有標(biāo)準(zhǔn)光刻膠,例如 AZ、Shipley、SU-8 和 K-CL。
掩膜對(duì)準(zhǔn)器UV-KUB 3是第一款配備UV-LED光源的掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可在國(guó)際市場(chǎng)上提供一個(gè)好的的準(zhǔn)直和均勻曝光。這款新一代掩膜對(duì)準(zhǔn)器*由觸摸屏操作進(jìn)行曝光,通過(guò)操縱板控制進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)操作。由于其防塵罩,該設(shè)備*安全,是市場(chǎng)上wei 一使精密光刻而無(wú)需潔凈室類(lèi)型環(huán)境的解決方案。
技術(shù)突破:
1、高質(zhì)量準(zhǔn)直器
· 發(fā)散角小于2°,保證了在厚層上實(shí)現(xiàn)分辨率低至 1µm和邊緣垂直度極 jia的圖案。
· 這種高質(zhì)量的準(zhǔn)直允許在不需要真空接觸模式的情況下達(dá)到微米級(jí)的分辨率。
2、LED技術(shù)
·完 mei的單色曝光光源
·冷紫外線源,防止不良熱效應(yīng)
·可以在連續(xù)或脈沖模式下運(yùn)行
·壽命長(zhǎng):uv-led光源不屬于消耗品
3、分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度
·這種新一代掩模對(duì)準(zhǔn)器能夠在整個(gè)4"或6"工作表面上實(shí)現(xiàn)低于1µm的微結(jié)構(gòu),對(duì)準(zhǔn)精度小于1 µm
特征:
? 晶圓表面區(qū)域的完 mei單色曝光,帶寬低于 10 nm
? 由 PAD 引導(dǎo)的視頻輔助定位系統(tǒng)
? 冷紫外線照射和基板環(huán)境的實(shí)時(shí)原位溫度控制,在整個(gè)表面上的均勻照射,因此消除了任何不良的熱效應(yīng)
? 強(qiáng)大的功率密度
? LED 壽命長(zhǎng):受控實(shí)時(shí)使用時(shí)間超過(guò) 10 000 小時(shí)
? 用戶友好型觸摸屏界面,可設(shè)置曝光循環(huán)編程(連續(xù)或循環(huán)曝光)
? 無(wú)需預(yù)熱時(shí)間
? 紫外線源強(qiáng)度調(diào)節(jié)的計(jì)算機(jī)控制,很直觀
? 紫外線照射室*密封:保證用戶安全
? 自動(dòng)晶圓裝載和卸載系統(tǒng)
? 低消耗
工藝應(yīng)用:
UV-KUB 3 系統(tǒng)非常適合實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì)的廣泛應(yīng)用,這些應(yīng)用涉及光學(xué)、生物技術(shù)、微電子、需要多層掩膜、晶圓鍵合、簡(jiǎn)單層或粘合劑固化、連接、組裝和生物或細(xì)胞培養(yǎng)的光刻工藝。
技術(shù)參數(shù):
分辨率 | 1µm |
對(duì)準(zhǔn)精度 | 1µm |
發(fā)散角 | < 2° |
可編程周期數(shù) | 100 |
曝光周期(連續(xù)或循環(huán)) | 從 1 秒到1小時(shí) |
接觸模式 | 硬(物理)接觸或軟(接近)接觸模式 |
可視化系統(tǒng)分辨率 | 1,5µm |
θ襯底位移分辨率 | 5.10-4° |
XYZ襯底位移分辨率 | 0,4µm |
UV-LED光源:
波長(zhǎng) | 365 nm ± 5 nm |
均勻曝光 | +/-5% |
LED的壽命 | >10000小時(shí) |
工作處理表面:
處理表面 | 4" 或 6" 晶圓 |
可接受的掩膜版尺寸 | 4" 和 6" 版本分別高達(dá) ? 5" 或 ? 7" |
可接受的基材尺寸 | ? 2" - ? 4" - ? 6" 和 50 x 50mm - 100 x 100mm |
掩膜/基板測(cè)量距離分辨率 | 0,5µm |
曝光期間的基板預(yù)熱 | < 1°C |
兼容光刻膠 | SU8、Shipley、AZ Resist、K-CL 抗蝕劑 |
其他參數(shù):
·尺寸:475(L)x 480(W)x 515(H)毫米
·重量:55千克/121磅
·彩色觸摸屏:15.6英寸
·功率密度:35 mW/cm2+/-10%
·電源:100 v/240 V-50 Hz/60 Hz
·功率:180 W
·可與鍍鉻的和柔性薄膜掩膜版兼容
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