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簡(jiǎn)要描述：是Quorum的市場(chǎng)較好的濺射和碳涂層機(jī)系列的*新版本。它們?cè)絹碓蕉嗟赜糜诟叻直媛曙@微鏡，其中包括超細(xì)涂層。范圍更廣的是SC7620，這是一款緊湊的入門級(jí)SEM濺射鍍膜機(jī)，可提供可選的碳纖維蒸發(fā)附件
產(chǎn)品型號(hào)：SC7620 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-05-17訪 問 量：3059產(chǎn)品分類
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| 濺射鍍膜機(jī)簡(jiǎn)介 濺射鍍膜機(jī)和SEM / TEM碳鍍膜機(jī) Q Plus系列 是Quorum的市場(chǎng)較好的濺射和碳涂層機(jī)系列的*新版本。它們?cè)絹碓蕉嗟赜糜诟叻直媛曙@微鏡，其中包括超細(xì)涂層。 濺射鍍膜是在掃描電子顯微鏡（SEM）上進(jìn)行觀察之前制備不導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉?biāo)本的標(biāo)準(zhǔn)方法。Quorum提供低成本，旋轉(zhuǎn)泵浦濺射鍍膜機(jī)，用于沉積非氧化金屬（例如金（Au）和鉑（Pt））以及渦輪分子泵鍍膜機(jī)，適用于氧化和非氧化金屬（例如鉻（鉻）。 為了提供改進(jìn)的超細(xì)涂層，Quorum推出了NEW Q150V Plus，該產(chǎn)品可提供1 x 10 -6 mbar 的極限真空度，以提供出色的效果。 大腔室濺射鍍膜機(jī)可用于直徑*大為200 mm的樣品。大多數(shù)Quorum涂層機(jī)也可以配置為使用易更換的碳棒和碳纖維插件進(jìn)行碳蒸發(fā)。 選購說明： Q150V是適合于高真空應(yīng)用。這款新產(chǎn)品使用戶能夠生產(chǎn)出更細(xì)的晶粒尺寸和更薄的涂層，以用于超高分辨率應(yīng)用（放大倍數(shù)達(dá)20萬倍）。 Q150T Plus涂布機(jī)適用于SEM，TEM和許多薄膜應(yīng)用。它有三種形式：作為濺射鍍膜機(jī)，碳鍍膜機(jī)，或在單個(gè)緊湊系統(tǒng)中同時(shí)進(jìn)行濺射和碳蒸發(fā)。 Q150R Plus涂布機(jī)適用于使用非氧化性金屬的W-SEM濺射應(yīng)用，以及適用于EDS和WDS的碳涂層SEM標(biāo)本。 對(duì)于較大的樣品，Q300T T Plus（渦輪分子泵）型號(hào)允許涂覆單個(gè)*大直徑為8“ / 200 mm的大直徑樣品（例如晶片），或多個(gè)直徑相似的較小樣品。兩個(gè)都具有三個(gè)濺射頭確保涂層均勻沉積。 對(duì)于薄膜應(yīng)用，Q300T D Plus雙靶順序?yàn)R射鍍膜機(jī)可連續(xù)濺射金屬層，而無需破壞真空。 該Q150 GB是Q150T的模塊化版本ES涂布機(jī)設(shè)計(jì)集成到一個(gè)手套箱。 范圍更廣的是SC7620，這是一款緊湊的入門級(jí)SEM濺射鍍膜機(jī)，可提供可選的碳纖維蒸發(fā)附件 |
| SC7620迷你濺射鍍膜機(jī) SC7620是一款緊湊型入門級(jí)SEM濺射鍍膜機(jī)。當(dāng)與可選的SC7620-CF碳纖維蒸發(fā)附件結(jié)合使用時(shí)，它是理想的低成本SEM濺射和碳涂層系統(tǒng)封裝。此外，SC7620標(biāo)配帶輝光放電功能，使其非常適合碳涂層TEM網(wǎng)格的親水化或“潤(rùn)濕”以及其他表面改性。 主要特征
對(duì)于大多數(shù)FE-SEM應(yīng)用所需的額外細(xì)晶粒涂層，需要高真空涂層-請(qǐng)參見Q150T或Q300TT。 有關(guān)用于W-SEM應(yīng)用的全自動(dòng)涂布機(jī)，請(qǐng)參見Q150R。 這些產(chǎn)品僅供研究使用。 操作簡(jiǎn)便 SC7620是理想的易于使用的儀器，是一款性價(jià)比高的設(shè)備。專為常規(guī)應(yīng)用而設(shè)計(jì)，SC7620使用基本的磁控濺射頭和易于更換的圓盤靶（金/鈀為標(biāo)準(zhǔn)）。濺射頭采用鉸鏈連接，易于操作，并配有電氣安全聯(lián)鎖裝置。面板安裝開關(guān)可在濺射鍍膜和輝光放電模式之間切換系統(tǒng)。 為防止意外損壞，高壓導(dǎo)線被屏蔽。等離子電流可通過使用氬氣泄漏閥調(diào)節(jié)真空度并預(yù)先設(shè)置等離子電壓來改變。為了獲得*大的濺射鍍膜效率，氣體噴射器系統(tǒng)可確保氬氣進(jìn)入腔室的位置接近等離子體放電。排氣是氬氣。 真空要求需要合適的旋轉(zhuǎn)真空泵。為此，Pfeiffer DUO 6 5 m 3 / hr兩級(jí)旋轉(zhuǎn)真空泵是理想的選擇。請(qǐng)參閱：訂購信息以獲取更多詳細(xì)信息。快速的循環(huán)時(shí)間，高度可調(diào)的樣品臺(tái) 直徑100毫米/ 4英寸的耐熱玻璃圓柱體安裝在鋁制軸環(huán)上，并用O型圈密封。較小的真空室尺寸意味著抽氣時(shí)間和循環(huán)時(shí)間都很快，并且還允許使用小型經(jīng)濟(jì)型旋轉(zhuǎn)泵。 樣品臺(tái)是可調(diào)節(jié)高度的，可以很容易地卸下以容納更高的樣品。沉積速率由分辨率為15秒的180秒計(jì)時(shí)器手動(dòng)控制。壓力和等離子電流由模擬儀表監(jiān)控。 濺射和SEM碳涂層（可選） SC7620將沉積適用于鎢絲SEM的涂料，并且具有操作簡(jiǎn)單，確?？煽啃院瓦m用于一般用途的優(yōu)點(diǎn)。可以通過添加可選的碳蒸發(fā)附件將其快速轉(zhuǎn)換為沉積碳，該附件包括可切換的電壓電源和碳纖維頭。 輝光放電（親水化）前面板上的三向開關(guān)可將SC7620切換到輝光放電模式。新鮮制得的透射電子顯微鏡（TEM）碳支撐膜傾向于具有疏水性表面，該疏水性表面阻礙了TEM切片從水浴表面收集，并阻止了顆粒懸浮液在負(fù)污染溶液中的擴(kuò)散。因此，在用空氣進(jìn)行輝光放電處理之后，可以使碳膜親水并帶負(fù)電荷，從而可以收集TEM截面并易于分散水懸浮液。 |
| Q150V Plus適用于高真空應(yīng)用中的超細(xì)涂層 Q150V Plus針對(duì)高真空應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化，極限真空度為1x10 -6 mbar。結(jié)合使用寬范圍的Penning / Pirani量規(guī)，可以濺射具有超細(xì)晶粒尺寸的氧化金屬，適用于高分辨率成像。較低的壓力從腔室中除去了氧氣和水蒸氣，避免了濺射過程中的化學(xué)反應(yīng)，否則可能導(dǎo)致涂層中的雜質(zhì)或缺陷。類似地，較低的散射允許高密度的高純度無定形碳膜。Q150V Plus具有Q150T Plus的所有優(yōu)點(diǎn)，但具有更細(xì)的晶粒尺寸和更薄的涂層，適用于超高分辨率應(yīng)用（放大倍數(shù)200,000）。 |
| Q150R Plus-旋轉(zhuǎn)泵式涂布機(jī) Q150R Plus適用于Tungsten / LaB6 SEM和臺(tái)式SEM。 Q150R Plus提供三種格式： 濺射 （Q150R Plus S） 碳纖維蒸發(fā)（Q150R Plus E） 濺射和碳線蒸發(fā)（Q150R Plus ES） |
| Q150T Plus-渦輪分子泵鍍膜機(jī) Q150T Plus經(jīng)過優(yōu)化，可與渦輪分子泵配合使用，從而將真空度降低至5 x 10-5 mbar。 Q150T Plus提供三種格式： 用于非氧化性金屬的自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)（Q150T S Plus） 用于SEM應(yīng)用（Q150T E Plus）的自動(dòng)碳涂層機(jī)（棒/繩） 能夠同時(shí)進(jìn)行濺射和碳涂層的組合系統(tǒng)（Q150T ES Plus） |
| Q150 GB渦輪泵濺射鍍膜機(jī)/手套箱用碳鍍膜機(jī) Q150GB是市場(chǎng)的Q150T ES臺(tái)式渦輪分子泵涂層系統(tǒng)的模塊化手套箱版本， 適用于SEM，TEM和許多薄膜應(yīng)用。Q150 GB標(biāo)配濺射和碳棒蒸發(fā)插件以及旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)。選件包括金屬蒸發(fā)，輝光放電，膜厚測(cè)量和特殊的載物臺(tái)，以適應(yīng)各種樣品類型 |
| Q300T D Plus-雙靶連續(xù)濺射，適用于直徑*大為150 mm的樣品 Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序?yàn)R射，具有兩個(gè)獨(dú)立的濺射頭，可以連續(xù)濺射兩種金屬而無需破壞真空。該系統(tǒng)是*自動(dòng)化的，具有用戶定義的配方，可控制泵送順序，時(shí)間，濺射周期數(shù)以及過程中使用的電流。通過在兩個(gè)靶材之間循環(huán)，可以依次濺射兩種靶材厚度不限的無限層。不使用時(shí)，將目標(biāo)物關(guān)閉以防污染。 |
| Q300T T Plus-三靶濺射鍍膜機(jī)，用于*大直徑200mm的樣品 Q300T T Plus是一個(gè)大室，渦輪泵送涂層系統(tǒng)，非常適合濺射*大8“ / 200mm的單個(gè)大直徑樣品或類似直徑的多個(gè)較小的樣品。非常適合薄膜應(yīng)用和SEM / FE- SEM。它配有三個(gè)濺射頭，以確保單個(gè)大樣品或多個(gè)樣品的均勻沉積 |
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