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9-6
WS1000濕法刻蝕機(jī)是一種用于微細(xì)加工的專業(yè)設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、MEMS等領(lǐng)域。它采用濕法刻蝕工藝,通過液體溶液對材料表面進(jìn)行加工,具有高精度、高效率和高質(zhì)量的特點(diǎn)。WS1000濕法刻蝕機(jī)的性能特點(diǎn):1.采用*控制系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)多種加工模式的自動切換和調(diào)整。用戶可以根據(jù)不同的需求,選擇不同的刻蝕工藝參數(shù),包括刻蝕時間、溫度、攪拌速度等,以獲得所需的加工效果。同時,該設(shè)備還具有在線監(jiān)測和反饋功能,能夠?qū)崟r監(jiān)測刻蝕過程中的溫度、濃度等參數(shù),并根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行調(diào)整,以...
8-7
NXQ4006光刻機(jī)是一種*半導(dǎo)體制造設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路和微電子領(lǐng)域。采用了光刻技術(shù),該技術(shù)是一種通過光敏化材料和光源的相互作用來進(jìn)行微細(xì)圖案轉(zhuǎn)移的方法。它在半導(dǎo)體制造過程中起著至關(guān)重要的作用。光刻機(jī)利用紫外線光源照射到光刻膠上,通過掩模的作用,將所需的圖案投影到硅片上。然后,經(jīng)過一系列的化學(xué)處理步驟,最終形成集成電路芯片。NXQ4006光刻機(jī)具有多種功能,包括高分辨率曝光、精確的對位和自動化控制等。其高分辨率曝光能力使得它能夠處理更小且更復(fù)雜的圖案,從而滿足不斷增長的...
7-10
Dake壓片機(jī)是一種常見且廣泛應(yīng)用于工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室中的機(jī)械設(shè)備,主要用于將粉末狀物質(zhì)轉(zhuǎn)變成具有一定形狀和強(qiáng)度的固體樣品。Dake壓片機(jī)特點(diǎn):1.高壓力:具有較高的壓力調(diào)節(jié)范圍,能夠提供足夠的壓力以將粉末狀物質(zhì)轉(zhuǎn)變成具有一定形狀和強(qiáng)度的固體樣品。2.精準(zhǔn)控制:設(shè)備配備了精確的壓力傳感器和控制系統(tǒng),可以實(shí)時監(jiān)測和控制施加的壓力,保證樣品的均勻和一致性。3.穩(wěn)定性:具有穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)和工作平臺,以提供穩(wěn)定的工作環(huán)境和高品質(zhì)的壓制過程。4.可靠性:設(shè)備采用優(yōu)質(zhì)材料和*技術(shù)制造,具有較長的使...
5-9
Cargille光學(xué)凝膠是一種用于光學(xué)顯微鏡和其他光學(xué)儀器的透明介質(zhì)。它是由美國化學(xué)家CargilleLaboratories公司生產(chǎn)的,其歷史可以追溯到20世紀(jì)初。通常用于樣品與物鏡之間制造一層均勻的折射率介質(zhì),以提高圖像清晰度和對比度。具有多種不同類型,包括液體、固體和熱塑性凝膠。它們的區(qū)別在于它們的特性,例如粘度、流動性和形成膜的速度。每種類型的光學(xué)凝膠都有其特的優(yōu)點(diǎn)和應(yīng)用場景。液態(tài)光學(xué)凝膠是最常見的類型。它們非常適合在光學(xué)顯微鏡中使用,并可用于從常規(guī)樣品到非常薄的切片...
4-10
美國Anatech等離子刻蝕機(jī)是一種重要的半導(dǎo)體加工設(shè)備,用于制備集成電路、納米器件等微電子元件。該設(shè)備將高能離子注入到工件表面,并在表面形成等離子體,從而實(shí)現(xiàn)數(shù)納米量級的微米級圖案形成和開發(fā)。一、工作原理美國Anatech等離子刻蝕機(jī)通過在真空狀況下,利用高能離子和化學(xué)氣相反應(yīng)來刻蝕和刻畫半導(dǎo)體。等離子刻蝕過程主要包括以下幾個步驟:1.氣相輸送:將制備好的半導(dǎo)體片放置在等離子刻蝕機(jī)內(nèi),并在機(jī)器中加入相應(yīng)的氣體。2.維持低壓:利用真空泵將內(nèi)部氣體的壓力降至低。3.置高功率等離...
3-9
Nanonex納米壓印光刻機(jī)主要由螺栓,上層板,中間板,傳動螺栓,傳動導(dǎo)向桿,壓塊和底層板組成,用螺栓、螺母連接固定。本設(shè)備結(jié)構(gòu)新穎、簡單,易于加工,并采用壓塊、導(dǎo)向桿和底層板分離的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),不僅實(shí)現(xiàn)了模具和硅片的自調(diào)平衡、達(dá)到很高的加工進(jìn)度,而且降低了底層板,中間板與傳動導(dǎo)向桿之間的位置精度要求,降低了制造成本。Nanonex納米壓印光刻機(jī)主要用途:1.本機(jī)針對各大專院校、企業(yè)及科研單位,對光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機(jī)。2.由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)*,找平力小、使本機(jī)不僅適...
2-2
美國CARVER熱壓機(jī)是非常堅(jiān)固可靠的,并以特別耐用而著稱。壓力分為12噸、25噸和30噸三種。主要用于紅外分析儀、X射線及X熒光分析儀等樣品的壓制,模具直徑包括13mm、31mm、35mm和40mm。Carver壓片機(jī)適用于諸多應(yīng)用,包括研發(fā),專業(yè)或小批量生產(chǎn)以及質(zhì)量測試,有數(shù)以千計(jì)的壓片機(jī)用于化學(xué),物理,生物和機(jī)械領(lǐng)域等眾多時時刻刻都需要壓制的應(yīng)用。美國CARVER熱壓機(jī)的操作檢修安全規(guī)程:1、操作人員上機(jī)前必須進(jìn)行崗前培訓(xùn),熟悉壓機(jī)性能后,方可操作熱壓機(jī)2、操作和檢修時...
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